水的純度，芯片的速度 | 沃頓科技自主研發超純水膜，助算力狂飆！
2025/06/30
AI預測、AI辦公、AI寫詞作曲……當人們在生活中不斷探索人工智能的N種打開方式時，或許未曾意識到，AI每一次高速“思考”的背后，都涌動著每秒萬億次的算力洪流。而支撐這場智能革命的引擎正深藏于一枚小小的芯片中，每一枚芯片的完美誕生，都離不開超純水的潔凈守護。
微電子行業對超純水要求有多嚴格？
從硅砂到芯片的蛻變，需要跨越數千余道精密工序，每一個環節都須嚴格把控，水質更為關鍵。幾乎不含任何離子、有機物、顆粒和微生物的超純水應運而生，廣泛應用于光刻、蝕刻、清洗及封裝等重要環節，一個普通的芯片制造工廠每天可以使用 1000 萬加侖的超純水。
超純水水質好壞直接影響到芯片的良品率和質量，因而微電子行業對其純度要求極高，在電阻率、總有機碳、顆粒物、菌群、溶解氧、金屬離子、硅元素等方面都具有嚴苛標準。
反滲透膜與超純水制備
超純水可通過反滲透法、離子交換法、蒸餾法等技術加工制取，其中，反滲透技術因高脫鹽率、適應水質含鹽量范圍廣、環保、產水水質穩定等特點得到普遍應用。
工藝流程：在超純水的制備工藝中，膜系統進水一般為市政自來水或自來水+回用水，經過預處理及2B3T工藝處理后，進入RO的進水電導一般小于10μs/cm。
RO膜技術需求：
一方面，脫除超純水的TOC（尿素等），另一方面，對膜元件通量需求較大，系統通常設計單支膜產水量達到1.2m3/h以上。
由于回用水中包含表面活性劑及其他生產沖洗過程中的清洗劑會對產水量有影響，對膜產水量的抗衰減性能要求高。
沃頓科技UE系列定義超純水中國方案
沃頓科技超純水膜UE系列顯著提升了PA脫鹽層的聚合度及致密性，脫鹽率可達99.7%，可實現TOC及SiO2的高脫除率，并且更耐進水TOC高負荷沖擊。
采用第三代給水格網，改善水流分布，降低壓力損失，凈壓力增加，產水量更大，能耗更低，且改變進水格網表面特性，降低污染物附著力、更耐污染更易清洗。
成功案例：
某企業有RO系統8套，單套78支膜元件，單套設計產水量110t/h，設計回收率≥90%；使用沃頓科技膜產品LE-440UE，單套系統產水量112t/h，回收率93.9%，進水TOC＜200ppb，產水TOC 10-30ppb，系統運行穩定，產水品質良好。
目前沃頓科技的超純水膜UE系列產品已在多家大型半導體企業實現穩定應用。未來，沃頓科技將持續以創新的超純水膜技術，為微電子產業賦能，助力高端芯片制造向精密化、規模化進階，驅動可持續發展，守護的純凈未來。
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